、  傳統(tǒng)的清洗方式有浸式清洗、噴氣清洗、噴流清洗、刷洗、噴淋清洗、噴霧清洗、減壓清洗及高壓水射流清洗等，而超聲波純水清洗是目前國際社會公認的最先進的清洗方式。清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源， 部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，V族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型 硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細菌）如吸咐在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。在電子管生產中，電子管陰極涂甫碳酸鹽，如其中混入雜質， 就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水，在顯象管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物 質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含其它有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

 在黑白顯象管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個晶體管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。

 隨著純水、超純水在光電光學領域中的重要作用日益突出，純水水質已成為影響光電光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在生產中，高純水主要用作純水清洗和純水配液，不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。

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